aki_iic https://blog.hatena.ne.jp/aki_iic/ aki_iic’s blog https://aki-iic.hatenablog.com/ 安全保障・国家戦略 軍事・航空・技術 支那でASMLの特許に触れない最新半導体製造技術の特許申請（出願の事？出願番号未調査：）されたとのブルームバーグの記事： www.bloomberg.co.jp 上記記事より引用： 国の通信機器大手、華為技術（ファーウェイ）は国内の半導体協業相手と共同で、先端半導体の製造方法を特許申請した。比較的低い技術で効率的に先端半導体を製造できる手法だという。米国による輸出規制にもかかわらず、中国が半導体製造能力を向上させていく可能性が広がる。 中国国家知識産権局に提出された申請書によると、両社が開発しているのは４倍の密度でパターンを形成する自己整合型クオドルプルパターニング（ＳＡＱＰ）と呼ばれる手法で… 190 <iframe src="https://hatenablog-parts.com/embed?url=https%3A%2F%2Faki-iic.hatenablog.com%2Fentry%2F2024%2F03%2F23%2F153548" title="特許申請 - aki_iic’s blog" class="embed-card embed-blogcard" scrolling="no" frameborder="0" style="display: block; width: 100%; height: 190px; max-width: 500px; margin: 10px 0px;"></iframe> Hatena Blog https://hatena.blog 2024-03-23 15:35:48 rich https://aki-iic.hatenablog.com/entry/2024/03/23/153548 1.0 100%