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  <blog_title>税関輸入差止め・模倣品対策ガイド｜特許事務所 TANAKA Law &amp; Technology</blog_title>
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    <anon>特許</anon>
    <anon>中国</anon>
    <anon>商標</anon>
    <anon>著作権</anon>
    <anon>税関</anon>
    <anon>知的財産権侵害</anon>
    <anon>偽物</anon>
    <anon>模倣</anon>
    <anon>micro</anon>
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  <description>完璧な権利を求めて時間を浪費してはいけません。 意匠・商標を素早く取得し、ポートフォリオを広げる。 日本と中国の両国で「税関登録」を行う。 ECサイトのパトロールと削除申請をルーチン化する。 模倣品対策に正解はありませんが、「権利者の意思を示すこと」がすべての始まりです。</description>
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  <published>2021-10-28 15:00:50</published>
  <title>模倣品対策の実践ガイド【2025年版】中国・Amazon対策から税関登録まで徹底解説</title>
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