KARMA-EDA https://blog.hatena.ne.jp/KARMA-EDA/ EDA弐号機発進！ https://karma-eda.hatenadiary.org/ EDA関連ニュース 2008年4月9日、レイアウト表示プラットフォーム「LAVIS」を手掛ける、日本のEDAベンダTOOLは、同社のフラクチャリングシステム「MaskStudio」のバージョンアップを発表した。プレスリリース：http://www.tool.co.jp/NewsItem/Lavis/News20080409Jp/「MaskStudio」は、レイアウト設計データを各種マスク描画装置フォーマットに変換するためのフラクチャリングシステムで、最新の「MaskStudio Ver.７」では、描画データ変換の高速処理に加えてレイアウト設計データの入力部を高速化し、フォーマット変換の大幅なTAT短縮を実現。更に… 190 <iframe src="https://hatenablog-parts.com/embed?url=https%3A%2F%2Fkarma-eda.hatenadiary.org%2Fentry%2F20080410%2F1207790650" title="TOOL、フラクチャリングシステム「MaskStudio」をバージョンアップ〜フォーマット変換の更なる高速化を追及 - EDA弐号機発進！" class="embed-card embed-blogcard" scrolling="no" frameborder="0" style="display: block; width: 100%; height: 190px; max-width: 500px; margin: 10px 0px;"></iframe> Hatena Blog https://hatena.blog 2008-04-10 10:24:10 rich https://karma-eda.hatenadiary.org/entry/20080410/1207790650 1.0 100%