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  <description>http://jbpress.ismedia.jp/articles/-/38126 高歩留まりのためには「最初に均一性ありき」がNECの考え方である。一方、まず「新技術で一点突破」し、均一性は後回しなのが日立の考え方であった。 文化の違いは深刻な結果を生む。 とにかくNECでは仕事を細分化していた。例えば、メタルエッチング装置が1台あったとする。それに関わる技術者をカウントすると、256メガビットDRAMのアルミエッチ担当者、0.18μmロジックLSIのアルミエッチ担当者と窒化チタン担当者、0.13μｍロジックLSIのメタルエッチ担当者、窒化チタン担当者、タングステン担当者、ハードウエアの保…</description>
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  <published>2013-07-08 00:00:40</published>
  <title> 均一性のNECと一点突破の日立 手段と目的を履き違えていた半導体技術文化</title>
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