<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<oembed>
  <author_name>sos_jp</author_name>
  <author_url>https://blog.hatena.ne.jp/sos_jp/</author_url>
  <blog_title>sos の 作業メモ</blog_title>
  <blog_url>https://sos.hatenablog.jp/</blog_url>
  <categories>
    <anon>勉強会</anon>
  </categories>
  <description>昨日に引き続いて２回目です。 今日もメルパルク大阪。朝8時前に起きて、身支度して会社を出ると、なんだかまともなサラリーマンぽい気がして新鮮です。 あと数日繰り返せば習慣にできそうな気もしますが、 はやり細切れの移動は時間がもったいないなと痛感します。 今日の内容 四法に関する実務というよりは、周辺の法律や制度に関するお話。IPに携わるエンジニアとして、こういった方面の知識は、常識として雑談レベルで応じられるように しておきたいものです。 自社を振り返っても、役立つ事もボチボチとありますし、 10:00～12:30 不正競争防止法と営業秘密の適切な管理、営業秘密侵害事犯への対処方法等について 1…</description>
  <height>190</height>
  <html>&lt;iframe src=&quot;https://hatenablog-parts.com/embed?url=https%3A%2F%2Fsos.hatenablog.jp%2Fentry%2F2017%2F10%2F05%2F063000&quot; title=&quot;知的財産権制度説明会（実務者向け）大阪第２回に参加しました - sos の 作業メモ&quot; class=&quot;embed-card embed-blogcard&quot; scrolling=&quot;no&quot; frameborder=&quot;0&quot; style=&quot;display: block; width: 100%; height: 190px; max-width: 500px; margin: 10px 0px;&quot;&gt;&lt;/iframe&gt;</html>
  <image_url>https://cdn-ak.f.st-hatena.com/images/fotolife/s/sos_jp/20171004/20171004174101.jpg</image_url>
  <provider_name>Hatena Blog</provider_name>
  <provider_url>https://hatena.blog</provider_url>
  <published>2017-10-05 06:30:00</published>
  <title>知的財産権制度説明会（実務者向け）大阪第２回に参加しました</title>
  <type>rich</type>
  <url>https://sos.hatenablog.jp/entry/2017/10/05/063000</url>
  <version>1.0</version>
  <width>100%</width>
</oembed>
