tomonari0423 https://blog.hatena.ne.jp/tomonari0423/ 技術者・研究者向けセミナー https://tomonari0423.hatenadiary.org/ 模倣品・海賊版による被害！我が国企業にとって潜在的市場の喪失、消費者に対するブランド・イメージの低下、製造物責任を巡るトラブルの増加等の悪影響を及ぼす。その対応策についてじっくり解説！中国におけるデザイン／商標／偽物／コピー商品対策主催：Ｒ＆Ｄ支援センター日時：2011年2月25日（金） 13：00〜16：15第１部 中国におけるデザイン・商標模倣防止対策 ＜受講対象レベル＞ 初心者から実務家までが理解できるように、分かりやすく具体的にお話をいたします。＜講座のポイント＞ 冒認意匠・冒認商標（駆け抜け）を防止するために早期に権利取得をし、模倣品に対して早期に権利行使をするための留意点についてお… 190 <iframe src="https://hatenablog-parts.com/embed?url=https%3A%2F%2Ftomonari0423.hatenadiary.org%2Fentry%2F20110204%2F1296796271" title="中国におけるデザイン／商標／偽物／コピー商品対策 - 技術者・研究者向けセミナー" class="embed-card embed-blogcard" scrolling="no" frameborder="0" style="display: block; width: 100%; height: 190px; max-width: 500px; margin: 10px 0px;"></iframe> Hatena Blog https://hatena.blog 2011-02-04 14:11:11 rich https://tomonari0423.hatenadiary.org/entry/20110204/1296796271 1.0 100%