tomonari0423 https://blog.hatena.ne.jp/tomonari0423/ 技術者・研究者向けセミナー https://tomonari0423.hatenadiary.org/ 半導体洗浄技術の基礎、現状の課題と解決策、そして世界最先端の最新動向までを、実践的な観点から豊富な事例を交え、 初心者にも分かりやすく、かつ具体的に徹底解説！半導体製造プロセスにおける精密洗浄技術の基礎と課題および最新動向主催：Ｒ＆Ｄ支援センター日時：2011年4月22日（金） 10：30〜16：30【習得できる知識】 ・半導体教科書にはほとんど採り上げられない半導体洗浄技術の現状の課題と将来展望 ・基礎の基礎から世界の最新動向にいたる半導体洗浄技術のすべて ・洗浄技術を切り口とした先端半導体プロセス技術 【受講対象】 半導体デバイスメーカー、装置メーカー、材料メーカー、計測器メーカー、ゼネコ… 190 <iframe src="https://hatenablog-parts.com/embed?url=https%3A%2F%2Ftomonari0423.hatenadiary.org%2Fentry%2F20110220%2F1298205592" title="半導体製造プロセスにおける精密洗浄技術の基礎と課題および最新動向 - 技術者・研究者向けセミナー" class="embed-card embed-blogcard" scrolling="no" frameborder="0" style="display: block; width: 100%; height: 190px; max-width: 500px; margin: 10px 0px;"></iframe> Hatena Blog https://hatena.blog 2011-02-20 21:39:52 rich https://tomonari0423.hatenadiary.org/entry/20110220/1298205592 1.0 100%