tomonari0423 https://blog.hatena.ne.jp/tomonari0423/ 技術者・研究者向けセミナー https://tomonari0423.hatenadiary.org/ 半導体プロセスを中心にグリーンエッチングイノベーションの展望を解説！最近注目を集めている大気圧プラズマによる処理技術についても、デモ機を用いての実演を行い、受講者のプラズマエッチングへの理解を深めるよにしております。明日の仕事に役に立つプラズマエッチングの基礎と実例主催：Ｒ＆Ｄ支援センター日時：2011年5月18日（水） 10：00〜16：30, 翌19日（木） 10：00〜16：30＜講座のポイント＞ エッチング技術は、ULSIからマイクロマシン・バイオに至るデバイスプロセスの基幹技術になっています。半導体デバイスの集積化が進むにつれて、微細化や大口径化に対応し、均一で、かつ高速に10以上の… 190 <iframe src="https://hatenablog-parts.com/embed?url=https%3A%2F%2Ftomonari0423.hatenadiary.org%2Fentry%2F20110413%2F1302656356" title="明日の仕事に役に立つプラズマエッチングの基礎と実例 - 技術者・研究者向けセミナー" class="embed-card embed-blogcard" scrolling="no" frameborder="0" style="display: block; width: 100%; height: 190px; max-width: 500px; margin: 10px 0px;"></iframe> Hatena Blog https://hatena.blog 2011-04-13 09:59:16 rich https://tomonari0423.hatenadiary.org/entry/20110413/1302656356 1.0 100%