<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<oembed>
  <author_name>kyoshinhei</author_name>
  <author_url>https://blog.hatena.ne.jp/kyoshinhei/</author_url>
  <blog_title>気になった特許の話題 -Patent Topics Explorer-</blog_title>
  <blog_url>https://www.patent-topics-explorer.com/</blog_url>
  <categories>
    <anon>特許</anon>
    <anon>日本</anon>
    <anon>再公表特許廃止</anon>
  </categories>
  <description>以前の記事で、日本の特許公報システムの刷新が２０２２年１月から刷新が現状予定通りされていることを記載しました。 その中で、①特許の公開公報や登録公報が&quot;「毎週発行」から「毎日発行」を原則となること、②再公表特許を廃止すること、を紹介しました。 www.patent-topics-explorer.com 下記の2021年12月14日のSankeiBizの記事によると、商用データベースの会社も対応に混乱が生じている可能性があるようです。 【知財ビジネス】特許庁、デジタル化の進展でどう変わる？ - SankeiBiz（サンケイビズ）：自分を磨く経済情報サイト 以前J-PlatPatの対応を紹介しま…</description>
  <height>190</height>
  <html>&lt;iframe src=&quot;https://hatenablog-parts.com/embed?url=https%3A%2F%2Fwww.patent-topics-explorer.com%2Fentry%2F2021%2F12%2F15%2F221100&quot; title=&quot;日本: 特許庁の特許公報システムの変更と商用特許データベース - 気になった特許の話題 -Patent Topics Explorer-&quot; class=&quot;embed-card embed-blogcard&quot; scrolling=&quot;no&quot; frameborder=&quot;0&quot; style=&quot;display: block; width: 100%; height: 190px; max-width: 500px; margin: 10px 0px;&quot;&gt;&lt;/iframe&gt;</html>
  <image_url>https://cdn.user.blog.st-hatena.com/default_entry_og_image/23666471/164113008024266</image_url>
  <provider_name>Hatena Blog</provider_name>
  <provider_url>https://hatena.blog</provider_url>
  <published>2021-12-15 22:11:00</published>
  <title>日本: 特許庁の特許公報システムの変更と商用特許データベース</title>
  <type>rich</type>
  <url>https://www.patent-topics-explorer.com/entry/2021/12/15/221100</url>
  <version>1.0</version>
  <width>100%</width>
</oembed>
