ykodahon https://blog.hatena.ne.jp/ykodahon/ 和英特許翻訳メモ https://ykodahon.hatenablog.com/ 英語特許散策 US2022166279(JP)[0068] As illustrated in FIG. 5, a gate mark G is formed on the first wall portion 22 a of the inner wall portion 22 . 【００５１】 また、図５に示すように、内側壁部２２の第１の壁部２２ａには、ゲート痕Ｇが形成されている。 The gate mark G is a portion corresponding to a gate 313 of a molding mold used for molding of the insulator 2 . … 190 <iframe src="https://hatenablog-parts.com/embed?url=https%3A%2F%2Fykodahon.hatenablog.com%2Fentry%2Fad4017dc79793b626d0ce7639ddeeef2" title="ゲート痕 - 和英特許翻訳メモ" class="embed-card embed-blogcard" scrolling="no" frameborder="0" style="display: block; width: 100%; height: 190px; max-width: 500px; margin: 10px 0px;"></iframe> https://cdn-ak.f.st-hatena.com/images/fotolife/y/ykodahon/20251005/20251005220832.png Hatena Blog https://hatena.blog 2022-07-18 16:21:35 rich https://ykodahon.hatenablog.com/entry/ad4017dc79793b626d0ce7639ddeeef2 1.0 100%